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在半導(dǎo)體制造的精密世界里，硅片膜層厚度的微小偏差都可能導(dǎo)致器件性能衰減甚至失效。傳統(tǒng)接觸式測(cè)量方法因易劃傷晶圓表面、無法實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)等問題，逐漸被非接觸式技術(shù)取代。近紅外光（NIR）憑借其特殊的物理特性，成為硅片厚度測(cè)量?jī)x的核心光源，為芯片制造...
在化學(xué)實(shí)驗(yàn)室工作中，膠水殘留是一個(gè)常見的問題。這些殘留物可以影響實(shí)驗(yàn)結(jié)果，降低實(shí)驗(yàn)的準(zhǔn)確性和可靠性。傳統(tǒng)的去膠方法，如機(jī)械去除或有機(jī)溶劑清洗，存在著效率低、操作繁瑣、環(huán)境污染等問題。近年來，等離子去膠技術(shù)應(yīng)運(yùn)而生，被廣泛應(yīng)用于實(shí)驗(yàn)室中。等離子去膠技術(shù)是一種高效、環(huán)保的去膠方法，可以去除多種類型的膠水，包括硅膠、丙烯酸膠、雙面膠等，對(duì)實(shí)驗(yàn)器材的損傷非常小。其基本原理是利用等離子體對(duì)膠水進(jìn)行分解和氧化反應(yīng)，將其轉(zhuǎn)化為易于清洗的無害物質(zhì)。相比傳統(tǒng)去膠方法，等離子去膠技術(shù)具有如下優(yōu)勢(shì)...
在實(shí)驗(yàn)室中，許多操作都要求精確、快速，且不能出錯(cuò)。但是，一些常規(guī)的實(shí)驗(yàn)步驟，如去膠，往往需要耗費(fèi)大量時(shí)間和人力。然而，隨著等離子去膠技術(shù)的出現(xiàn)，這一難題得到了有效的解決。等離子去膠技術(shù)以其特殊的優(yōu)勢(shì)，大大簡(jiǎn)化了實(shí)驗(yàn)流程，提高了實(shí)驗(yàn)效率。一、它的原理與特點(diǎn)等離子去膠技術(shù)是利用等離子體中的活性粒子對(duì)膠體進(jìn)行刻蝕，從而達(dá)到去除膠體的目的。與傳統(tǒng)的去膠方法相比，它具有以下優(yōu)點(diǎn)：1.高效性：等離子體能夠快速、全面地刻蝕膠體，大大縮短了去膠時(shí)間。2.均勻性：等離子體能夠均勻地作用于樣品表...
電容位移傳感器是一種常見的位移測(cè)量傳感器，廣泛應(yīng)用于工業(yè)自動(dòng)化、機(jī)器人控制、汽車電子等領(lǐng)域。本文將對(duì)電容位移傳感器的性能參數(shù)及其影響因素進(jìn)行分析。1.線性度：線性度是衡量電容位移傳感器輸出信號(hào)與實(shí)際位移之間關(guān)系的一個(gè)重要指標(biāo)。線性度越高，傳感器輸出信號(hào)與位移的比例關(guān)系越準(zhǔn)確。線性度受到傳感器結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和制造工藝的影響，同時(shí)也受到外界環(huán)境因素的影響。2.靈敏度：靈敏度是指?jìng)鞲衅鬏敵鲂盘?hào)隨著位移變化的幅度大小。靈敏度高意味著傳感器對(duì)位移變化的響應(yīng)更為敏感。傳感器的靈敏度與電容結(jié)構(gòu)的...
動(dòng)態(tài)激光干涉儀是一種高精度的光學(xué)測(cè)量設(shè)備，廣泛應(yīng)用于光學(xué)元件表征領(lǐng)域。它利用激光干涉原理，通過測(cè)量光束的相位差來獲取光學(xué)元件的形貌、表面平整度和光學(xué)性能等關(guān)鍵參數(shù)。本文將介紹儀器在光學(xué)元件表征中的應(yīng)用，并探討其優(yōu)勢(shì)和局限性。動(dòng)態(tài)激光干涉儀在光學(xué)元件表征中有著廣泛的應(yīng)用。首先，它能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)光學(xué)元件的形狀和曲率半徑進(jìn)行精確測(cè)量。通過測(cè)量光束的干涉圖樣，可以計(jì)算出光學(xué)元件的曲率半徑，從而評(píng)估其透鏡效應(yīng)和光學(xué)性能。這對(duì)于光學(xué)元件的制造和質(zhì)量控制非常重要，為光學(xué)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)和優(yōu)化提供了準(zhǔn)...
晶圓鍵合機(jī)是一種用于半導(dǎo)體制造過程中的關(guān)鍵設(shè)備，主要用于將兩個(gè)或多個(gè)晶圓通過金屬線或焊料連接在一起。這種設(shè)備在半導(dǎo)體制程中起著至關(guān)重要的作用，因此對(duì)其進(jìn)行定期的保養(yǎng)和維護(hù)是非常必要的。以下是關(guān)于晶圓鍵合機(jī)的保養(yǎng)方式的詳細(xì)描述：1.清潔工作：晶圓鍵合機(jī)在使用過程中，會(huì)吸附大量的塵埃和雜質(zhì)，這些雜質(zhì)會(huì)對(duì)設(shè)備的性能和壽命產(chǎn)生不良影響。因此，定期對(duì)設(shè)備進(jìn)行清潔是非常必要的。清潔時(shí)，可以使用專用的清潔劑和軟布，對(duì)設(shè)備的外部和內(nèi)部進(jìn)行擦拭。同時(shí)，還需要定期清理設(shè)備內(nèi)部的過濾器和風(fēng)扇，以防...